据记者称，近日，上海第三批精密测量半导体前光学测量设备从新厂成功发货，再次交付给华北大学客户，为公司成立四周年献礼。这个输出EFILM®一系列光学薄膜厚度测量设备和EPROFILE®一系列关键光学尺寸测量设备，可满足多方面的测量需求。
在光学散射测量方法完成测量参数提取后，需要通过理论光谱和测量光谱的匹配程度来判断结果的可靠性。有两个常见的评价指标：偏差指数和相关系数。然而，这是两个独立的评价标准。传统的光学散射测量分析方法只使用一个指标来评价测量结果的可靠性，难以得到正确的评价结果，难以判断测量结果是否可靠，导致测量不良，无法准确判断加工过程是否符合标准。
为此，上海精测半导体于2022年1月10日申请了一项名称“一种光学测量数据分析方法.分析系统和电子设备”发明专利(202020222121).4)，申请人为上海精测半导体科技有限公司。
图1光学测量数据分析方法流程图
图1是光学测量数据分析方法的过程图，主要包括以下步骤：首先对多个检测样本进行光谱分析，获样本的光谱偏差指数和光谱相关系数，然后结合光谱偏差指数.光谱偏差指数参数.基于数学模型计算的光谱相关系数和光谱相关系数参数创建光谱匹配度指数数学模型，使每个检测样本的光谱匹配度指数大于预设的光谱匹配度指数阈值；最后，对待测件进行光谱分析，获取待测件的光谱偏差指数和光谱相关系数，并根据数学模型计算待测件的光谱匹配度指数值。如果待测件的光谱匹配度指数值大于预设光谱匹配度指数阈值，待测件为正常件；否则，待测件为异常件。
物理模型的建立包括:基于检测样品的设计信息，如膜层叠结构、膜层厚度等.结构宽度的名义值或通过其他测量方法预先确定的信息，如结构中使用的材料的折射率，以建立检测样本的物理模型；根据麦克斯韦方程或其简化形式实现物理模型(几何参数).对于散射光谱计算的模型，常用的建模方法包括但不限于4×4矩阵法.严格的耦合波分析.有限元.边界元等。
图2电子设备结构图
图2显示了电子设备的结构图，包括:处理器310。通信接口320。存储器330和通信总线340。其中，处理器、通信接口和存储器通过通信总线完成相互通信。处理器可以调用存储器中的逻辑指令来执行光学测量数据分析方法。
简而言之，上海精密测量半导体光学测量专利，通过偏差指数和相关系数进入光谱匹配指数，提高了光谱分析的准确性和普适性，可以在线监测半导体果在线监测半导体加工过程，大大提高了半导体加工率判断的准确性。
上海精测半导体主要从事半导体测试设备的研发.生产和销售，以及新能源领域的部分显示和测试设备。该公司已经进行了半导体测试.未来，公司将成为全球优秀的半导体测试设备供应商和服务商。